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Entegris總裁兼執行長Bertrand Loy表示,「我們都知道,在半導體製程中需要極高清潔度,有細微奈米顆粒都不行,Entegris此次推出的新型(post-CMP)清潔溶液,PlanarClean AG系列產品是專為10nm以下的製程所設計。」

▲Entegris於6日舉辦五十周年暨新品發

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表會。(圖/記者王雅賢攝)

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▲Entegris總裁兼執行長Bertrand Loy及英特格台灣區總經理謝俊安。(圖

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/記者王雅賢攝)



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另外,Entegris過去兩年的各系列產品也將於SEMICON Taiwan國際半導體展期間展出。

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英特格台灣區總經理謝俊安表示,台灣目前佔公司業績約25

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%,預計未來佔比會持續升高,而預估業績能成長的原因有二,全球行銷副總楊文革表示,「半導體產業在台積電的帶動下不斷成長,從全球來看,投資半導體最遠、最投入、金額最高的是台積電,另一個是,台灣產業鏈中可以發現有許多廠商自製化學品投資也在增加,因此台灣未來半導體產業獲利增加是可預見的。」

記者王雅賢/台北報導

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Entegris表示,Entegris的PlanarClean系列產品早已被世界各地的晶圓廠使用,而為了因應於材料不斷推陳出新 (如鈷和鎢),先進節點的晶圓製造越來越複雜,我們重新調製 PlanarClean 溶液,提供優越清洗能力的同時,且不會損壞高階薄膜或新材料。



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專以協助半導體製程相關問題的廠商英特格(Entegris)6日舉辦50周年記者會,並推出適用於半導體10nm製程以下的新型(post

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-CMP)清潔溶液。該產品也將於SEMICON Taiwan國際半導體展期間展出。

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